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7nm光刻机哪些国家有(7纳米光刻机中国能造吗)

作者: 来源:98软件园 时间:2022-01-26 21:14:05

“离开美国,我国两年内能制造出7nm高端芯片吗?”这是自中芯国际与ASML公司签订12亿美元采购合同之后,国内网友最关注的话题。

自去年5月美国利用芯片对华为进行深度打击后,芯片就一直成为国人们最关注的话题,并且对此展开了激烈的讨论。那么,我们离开美国的技术和设备,两年之内可以制造出7nm芯片吗?

芯片是半导体元件的统称,在正式商用之前,要经过晶圆制作、芯片设计、晶圆加工、封装测试等几个复杂的环节。

离开美国,我国两年内可以造出7nm“中国芯”吗?

首先,晶圆制作

现在制作芯片晶圆的成分是硅,从石英砂中提取而来,再经过99.999%的纯化后制成晶圆棒,成为制造集成电路的材料,最后经过切片进而成为芯片制作所需要的晶圆。

其次,芯片设计

离开美国,我国两年内可以造出7nm“中国芯”吗?

所谓的芯片设计,就是根据设计的需求,生成的“图样”。任正非曾表示,我国拥有世界顶级的芯片设计能力,华为海思制造的麒麟9000 5G芯综合性能超越高通骁龙888和苹果A14仿生芯片就是最好的证明。

第三,晶圆加工

晶圆加工不但需要高端光刻机对芯片进行光学显影后,还需要蚀刻机对印好线路图的硅晶圆进行晶体管集成。这套工序需要一套极其精密的设备紧密配合,堪称芯片制造过程中最为复杂的步骤。

离开美国,我国两年内可以造出7nm“中国芯”吗?

然后经过封装测试后,剔除不合格的产品,方能被应用在电子智能产品上。

在芯片制造的所有步骤中,晶圆加工是我国集成电路产业链的短板,主要原因就是高端光刻机被卡了脖子,而我国自研的光刻机仅为28nm级,经过技术改进后可生产14nm芯片。

那么,我们两年之内可以制造出7nm“中国芯”吗?答案是肯定的,可以!

离开美国,我国两年内可以造出7nm“中国芯”吗?

据知情人士透露,中芯国际自研的“N+1”芯片制程工艺已经成熟,完全可以绕过高端光刻机制造出7nm芯片,不久即可进行风险量产。

除此之外,随着国内不断加大对半导体行业发展的重视,各大科研机构、企业不断提升科研投入,加大科技攻关力度,在短时间内不断打破技术壁垒,我国半导体行业的整体水平得到了很大的一个提升。

离开美国,我国两年内可以造出7nm“中国芯”吗?

二月底,清华大学正式宣布,已经发现一种可用于EUV光刻机的新光源,加速了国内EUV光刻机的研发进程。值得一提的是,EUV光刻机最核心的技术就是紫极外光技术,只要我们掌握了这种技术,再寻找到可以替代来自美企用于EUV光刻机的核心元器件,我们便可以制造出EUV光刻机。届时,“中国芯”将迎来一个高速发展期。

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