中国什么时候才能造出5nm的光刻机？真的有那么难吗？长见识了

光刻机现在已经是很多普通老百姓都知道的”高级”名词，这个复杂的机器现在已经成为了美国恶意制裁中国芯片的武器。我们知道这个世界上很多东西都是集合全球的力量博采众长制造而来的，手机如此、光刻机也是如此。那么中国，如果要自己进行光刻机的研究要多少年才能达到5纳米水平呢？看完算长见识了

在说这个问题之前我们还是需要先了解一下光刻机究竟有多复杂。

现在世界上顶级的设备毋庸置疑就是ASML的5纳米光刻机。这台机器如果一一拆分开来的话可以装进大约40个集装箱之中，超过100000万个零件的总数量在机器领域绝对算得上是庞然大物。而且这10万个零件之中，精密仪器、顶级光源、超稳定轴承和计量器一个都不少。它们分别来自全球各个国家，包括日本、德国和美国。而其中，美国为光刻机提供的基础零件其实也比较多，正因如此他们才能如此硬气的要求芯片代加工厂商禁止向华为输出产品。

想要最直接、最有利的打破这个封杀很多人觉得最简单的方式就是我们自己来制造。但是这又谈何容易。

光刻机需要的各个零部件之中中国不能制造的就不在少数，想要打通这些供应商的供应首先就几乎是一件不可能完成的事情。毕竟这些供应商也要考虑向中国出售光刻机材料之后也许自己也会遭到来自美国的报复和打击。如果在我们力所能及的范围之内进行供应链的完善和技术的发展，现在中国的光刻机技术最先进的应该是28纳米左右的水平。

28纳米到5纳米是一个巨大的鸿沟。

这个鸿沟不是光靠研究研究就能实现的。事实上在理论基础上，咱们国家已经有相关的实验室具备了2纳米技术的理论基础和研究方向，但是批量生产是需要保证稳定、良品率和效率的。要做到这一点，真的很难。

为了将5纳米的光刻机顺利的研究出来，仅仅是美国一个国家就投入了超过50个顶级科研团队用了20多年的时间不间断地进行研究。欧洲诸国、日韩虽然投入没那么大，但那是相对来说也算得上是在正确的时间做了正确的事情。但是我们国家的光刻机技术却在190纳米左右的程度停滞了二十年之久。20多年足够改变很多情况了。

所以不夸张的话，现在中国想要自主生产出来一台能够稳定批量制造5纳米制程芯片的光刻机，也许10年也许20年都是有可能的。毕竟现在这方面的技术处在被封锁的阶段、光源等核心部件中国也被禁运，所以一些靠自己和世界集大成所花费的时间必然会有巨大的差距。